公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
溅镀法(Sputtering):(1)上平行板:装载溅镀金属的靶材;下平行板:作为溅镀对象的玻璃基板。(2)将气(Ar 2 )通入反应舱中形成等离子体;离子(Ar + )在电场中被加速后冲撞靶材;受冲击的靶材原子会沉积在玻璃基板上从而形成薄膜。
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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,掩膜板,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
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光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应,选用方解石是因为其的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用Cr,因此有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线,在于你常用的光刻胶,每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。